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万博ManBetX598.com 和光学镀膜的区别是什么?

发布时间:2019-09-05浏览次数:载入中...来源:http://www.syydjx.com/

一、概念上的差异


   1.万博ManBetX598.com 是一种在高真空条件下加热金属或非金属材料,在电镀件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发浓缩形成薄膜的方法,如真空镀铝、真空镀铬等。


   2.光学镀膜是指在光学零件表面镀一层(或多层)金属(或介质)薄膜的过程,在光学零件表面涂覆的目的是减少或增加反射、光束分离、分色、滤波、极化等,常用的镀膜方法是万博ManBetX598.com (物理镀膜的一种)和化学镀膜。

二、原理的区别


   1.万博ManBetX598.com 是真空应用领域的一个重要方面,它是一种以真空技术为基础,采用物理或化学方法,吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产薄膜提供新的工艺。简单地说,是一种在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物的方法,使其凝固并沉积在涂覆物(称基板、基片或基体)上。


    2.光学干涉被较多应用于薄膜光学中,光学薄膜技术的常用方法是用真空溅射在玻璃衬底上涂覆薄膜,通常用来控制基片对入射光束的反射率和透射率,以满足不同的需要,为了消除光学部件表面的反射损耗,提高成像质量,对一种或多种透明介质膜进行了包覆,称为减反射膜或增透膜。


随着激光技术的发展,对薄膜的反射率和透光率提出了不同的要求,促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展,根据各种应用需要,采用高反射膜制备了偏振反射膜、彩色光谱膜、冷光膜和干涉滤光片,在光学部件表面涂覆后,光在膜层上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制薄膜的折射率和厚度,获得不同的强度分布,这是干涉涂层的基本原理。


三、方法和材料的区别

1.万博ManBetX598.com 方法材料:


(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室。清空后,薄膜材料被加热到高温,使蒸汽达到13.3Pa左右,蒸汽分子飞到基片表面并凝结成薄膜。


(2)阴极溅射镀:将需要在阴极对面涂覆的基板,通过惰性气体(如氩)进入空室,使压力保持在1.33≤13.3Pa左右,然后将阴极与2000 V直流电源连接,然后激发辉光放电,正氩离子撞击阴极,使其发射原子,并将溅射原子沉积在衬底上形成薄膜。


(3)化学气相沉积:通过对选定的金属或有机化合物进行热分解而沉积薄膜的过程。


(4)离子镀:从本质上说,离子镀是真空蒸发和阴极溅射镀的有机结合,两者兼具技术特点。表6/9列出了各种镀膜方法的优缺点。


2.光学镀膜方法材料


主要研究结果如下:

(1)氟化镁:高纯度无色四面体粉末。用氟化镁制备的光学涂层能提高透光率,避免塌陷点。


(2)二氧化硅:无色透明晶体、高熔点、高硬度和良好的化学稳定性。高纯度、高质量的Si02涂层、良好的蒸发状态、无塌陷点。按使用要求可分为紫外线、红外线和可见光。


(3)氧化锆:白色重晶,折射率高,耐高温,化学性质稳定,纯度高,制备优质氧化锆涂层,无塌陷点。



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